上海新陽半導體材料股份有限公司發布公告,披露了關于購買ASML-1400光刻機的最新進展。
據介紹,上海新陽自立項開發193nmArF干法光刻膠的研發及產業化項目以來,安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備,并于2020年12月14日披露,該光刻機將于2020年底前運抵國內。
不過此后,由于上海新陽與光刻機供應商、北方集成電路技術創新中心(畢竟)有限公司在溝通協調設備運輸與安裝等細節方面遇到波折,光刻機設備沒能在規定時間內運達。
隨后,雙方就具體合作細節簽署了《合作框架協議》,預計該光刻機將于2021年3月底前進入北方集成電路現場。
現經各方積極協商、運作,這臺光刻機設備于今日已進入北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司的場地,后續將進行安裝調試等相關工作。
上海新陽表示,采購的ASML干法光刻機設備順利交付,對加快193nm ArF干法光刻膠產品開發進度有積極影響,有利于進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力,加快落實公司發展戰略,提高公司抗風險能力和可持續發展能力。
不過,這臺光刻機尚須經過裝機、調試等相關環節,如果出現工作疏漏或失誤,則存在造成光刻機投入使用過程較長,甚至無法投入使用的風險。
另外,光刻膠研發項目技術壁壘高、周期長,投入產業化并最終實現銷售利潤,仍需一定時間,而且價格昂貴,其折舊及后續維護費用預計對公司的經營業績存在一定影響。
責任編輯:莊婷婷
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